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Durante los últimos 15 años, el estudio de la entonación del español ha aumentado en su popularidad de manera dramática. Pese a ello, relativamente poco se ha hecho con respecto a la variedad del español que se habla en Chile. Como consecuencia, aún no se sabe mucho sobre las propiedades prosódicas y los patrones de la entonación del español chileno. El presente estudio analiza un contorno entonacional tipo sombrero que no se ha documentado en ningún estudio previo sobre la entonación chilena ni en los estudios que tratan la entonación del español de manera más general. Se determinó que el contorno consiste en 4 porciones diferentes: un valle inicial o pequeño descenso de tono en el cual toda la materia fonética se mantiene al mismo nivel tonal, una subida abrupta a un nivel tonal más elevado, una meseta de tono alto en la cual toda la materia fonética se mantiene al mismo nivel tonal, y al final, una bajada que cierra el enunciado. La presente investigación es el primer análisis fonético del contorno sombrero chileno del que se sepa y asimismo intenta analizarlo por primera vez dentro del marco teórico del modelo autosegmental-métrico (AM). Por último, el contorno estudiado hace destacar posibles deficiencias y limitaciones del mismo modelo AM y su descripción de la fonología entonacional, en específico, cómo define los eventos tonales.
Within the past 15 years there has been a dramatic increase in the popularity of studies of Spanish intonation. Despite this surge, relatively little attention has been given to the variety of Spanish spoken in Chile. As a result, there is still much that is not known about the prosodic properties and patterns of Chilean Spanish intonation. The current study examines a previously undocumented plateau, or hat, pattern that does not appear in any of the known literature regarding Chilean or general Spanish intonation. The pattern was determined to consist of four different portions: an initial valley or dip to a lower F0 level in which all internal material was maintained at the same low tonal level, a sharp rise to a high tonal level, a high plateau in which all plateau internal material was maintained at the same high tonal level and finally an utterance final fall. The current investigation is the first known phonetic documentation of the Chilean hat pattern and likewise is a preliminary attempt at a phonological analysis within the current Autosegmental Metrical (AM) theoretical framework. Finally, the hat pattern highlights potential shortcomings and limitations of the AM approach to intonational phonology, namely how tonal events are defined.
